La lithographie dans l’extrême ultraviolet pour des micropuces plus petites et plus puissantes

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Les microprocesseurs prochaine génération sont le produit de la haute technologie européenne mais aussi des inventions clés fabriquées par l’ingénieur néerlandais Erik Loopstra et le physicien russo-néerlandais Vadim Banine dans le domaine de la lithographie extrême ultraviolet (EUV). Brevetée et mise sur le marché par le fabricant de puces ASML, cette technologie utilise des lasers haute énergie pour obtenir des détails à l’échelle nanométrique et produire des semi-conducteurs plus petits, plus rapides et plus puissants.

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