2nm!佳能推出纳米压印光刻机,直接弯道超车ASML?深度解读!

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佳能于10月13日发布FPA-1200NZ2C纳米压印光刻设备,据称目前已达到5nm制程水平,未来经优化可以达到2nm!这对于ASML的EUV设备,可以说在某种程度上构成了挑战!这期视频,我们详细解读下纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography)。


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